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SC900晶体清洗剂
新型能源、家用电器、照明灯具、航空航天、军工电子、交通工具...
主要针对半导体后段封装制程之Lead frame/Wafer bumping助焊剂、partic等清洗
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特性与优势
本产品适用于在线式和离线式清洗,超声波清洗工艺
●渗透性好 ,清洗力强 ,对基材料无腐蚀。
●低泡易漂洗,无味,操作人员易接受。
●易于漂洗,能够被去离子水轻松漂洗,有效的减少了漂洗次数。
●清洗寿命长,使用成本低
SC900晶体清洗剂主要针对半导体后段封装制程之Lead frame/Wafer bumping助焊剂、partic等清洗,金球推力。
SC900晶体清洗剂用在超声波清洗工艺中,可批量清洗结构复杂的电子组装件,对于底座低间隙的助焊剂残留物也能达到很好的清洗效果。在超声波清洗工艺中,将待清洗件浸没在清洗槽中,利用超声波在清洗剂中的空化作用、加速度作用及直进流作用,和清洗剂对污垢的超强溶解性相结合,使污垢层被溶解、分散、乳化,或剥离而达到清洗目的。
超声波清洗工业应用参数
项目 | 超声波清洗 | 超声波漂洗 | 干燥 | ||
单槽 | 多槽 | 单槽 | 多槽 | ||
介质 | SC900系例 | 去离子水 | 热风烘干 | ||
温度 | 40-80℃ | 40-55℃ | 80-120℃ | ||
时间 | 15-20min | 每槽15-20min | 5-10min | 每槽 5-10min | >10 min |
喷淋工艺的循环清洗系统更能发挥其易过滤、清洗寿命长及不易起泡等优势。喷淋清洗工艺适用于大批量清洗 ,在线完成化学清洗、漂洗、烘干全部工序。喷淋清洗主要是采用中、高压喷淋泵对清洗液增压,将低流的清洗液转换为高速束流冲擦清洗表面,从而达到清洗的目的。
喷淋清洗工业应用参数
项目 | 喷淋清洗 | 喷淋漂洗 | 干燥 |
第一段 | 第二段 | ||
介质 | E48系例水基清洗剂 | 去离子水 | 热风烘干 |
温度 | 40-80℃ | 40-55℃ | 80-120℃ |
时间 | 8-10min | 5-10min | >10 min |
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